最新试题
当许多损伤区连在一起时就会形成连续的非晶层,开始形成连续非晶层的注入剂量称为()。
常压的硅外延方法有()。
光刻工艺的设备核心是()。
注入损伤与注入离子的以下哪个参数无关?()
消除鸟嘴效应的方法有()。
光刻工艺对准误差包括()。
掺杂后退火时间一般在()。
新的平坦化方法有哪几个?()
下面哪个选项不是集成电路工艺用化学气体质量的指标?()
互连工艺中AL的制备可选用()。