注入离子的射程主要由()决定。确定注入离子分布的主要参数是()及其()。注入离子分布的一级近似为()。可写成:
最新试题
CMP的设备构成包括()。
目前制备SOI材料的主流技术有几种?()
进行沟槽填充常用的金属材料是()。
硅暴露在空气中,在室温下即可产生二氧化硅层,厚度约为()。
下面哪个选项不是集成电路工艺用化学气体质量的指标?()
CE定律发展面临的问题包括()。
刻蚀工艺可以和以下哪个工艺结合来实现图形的转移?()
光刻工艺的特点包括()。
下面哪些元素属于半径较小的杂质原子?()
厚膜电阻的成分,一是导体颗粒,二是()。