单项选择题本征半导体是指()的半导体。

A、不含杂质与缺陷;
B、电子密度与空穴密度相等;
C、电阻率最高;
C、电子密度与本征载流子密度相等。


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1.单项选择题电子在晶体中的共有化运动指的是电子在晶体()

A、各处出现的几率相同
B、各处的相位相同
C、各元胞对应点出现的几率相同
D、各元胞对应点的相位相同

2.单项选择题硅的晶格结构和能带结构分别是()

A.金刚石型和直接禁带型
B.闪锌矿型和直接禁带型
C.金刚石型和间接禁带型
D.闪锌矿型和间接禁带型

3.单项选择题重空穴是指()

A、质量较大的原子组成的半导体中的空穴
B、价带顶附近曲率较大的等能面上的空穴
C、价带顶附近曲率较小的等能面上的空穴
D、自旋-轨道耦合分裂出来的能带上的空穴

4.单项选择题欧姆接触是指()的金属-半导体接触。

A、Wms=0
B、Wms<0
C、Wms>0
D、阻值较小并且有对称而线性的伏-安特性

5.单项选择题半导体中载流子的扩散系数决定于该材料中的()

A、散射机构;
B、复合机构;
C、杂质浓度梯度;
C、表面复合速度。

7.单项选择题如果温度升高,半导体中的电离杂质散射概率和晶格振动散射概率的变化分别是()。

A、变大,变大
B、变小,变小
C、变小,变大
D、变大,变小

8.单项选择题锗的晶格结构和能带结构分别是()

A.金刚石型和直接禁带型
B.闪锌矿型和直接禁带型
C.金刚石型和间接禁带型
D.闪锌矿型和间接禁带型

9.单项选择题不考虑表面态的影响,如需在n型硅上做欧姆电极,以下四种金属中最适合的是()。

A.In(Wm=3.8eV)
B.Cr(Wm=4.6eV)
C.Au(Wm=4.8eV)
D.Al(Wm=4.2eV)

10.单项选择题金属-SiO2-p型Si构成的MIS结构中,SiO2中分布的可动正电荷不会影响()。

A.半导体表面势
B.平带电压
C.平带电容
D.器件的稳定性