问答题编写DRC版图验证文件的主要依据是什么？
参考答案： 工艺文件中的层次定义和给定的版图设计规则。

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1.问答题版图DRC、ERC和LVS的意义是什么？
参考答案：DRC：检查版图中同层、不同层间图形的线宽、间距是否满足工艺的最小尺寸要求。
ERC：检查版图中是否存在开路、短...
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2.问答题从设计的观点出发，版图设计规则应包括哪些部分？
参考答案：从设计的观点出发，设计规则可以分为三部分：
A.决定几何特征和图形的几何规定，这些规定保证各个图形被此之间具有正...
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3.问答题规定版图几何设计规则的意义是什么？
参考答案：版图几何设计规则为电路设计师和工艺工程师提供了一种必要的信息联系。其主要目标是获得有最佳成品率的电路，而几何尺寸则尽可能...
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4.问答题版图设计的基本前提是什么？
参考答案：版图设计的基本前提条件是：计算机辅助版图设计工具；版图设计规则；与设计相关的工艺文件。
5.问答题比较砷化镓和磷化铟等衬底与硅衬底上的电感等效电路，试分析两者存在差异的原因。
参考答案：砷化镓和磷化铟等衬底为半绝缘体，硅衬底为半导体。因此，硅衬底上电感有衬底损耗电阻和电容。
6.问答题试述两种传输线电感，比较其优缺点。
参考答案：

7.问答题利用2μm×6μm的多晶硅栅极覆盖在4μm×12μm薄氧化层的正中间构成一个MOS管，已知Cox＝5×10-4pF/μm2，估算栅极电容。
参考答案：

8.问答题集成电容主要有几种结构？
参考答案：1）金属-绝缘体-金属（MIM）结构；
2）多晶硅/金属-绝缘体-多晶硅结构；
3）金属的叉指结构
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9.问答题什么是无源电阻？什么是有源电阻？举例说明。
参考答案：无源电阻通常是合金材料或采用掺杂半导体制作的电阻，而有源电阻则是将晶体管进行适当的连接和偏置，利用晶体管的不同的工作区所...
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10.问答题试用电导率为102/（Ω·cm），厚1μm的材料设计1kΩ的电阻，设电阻宽1μm，求其长。
参考答案：

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从天然硅中获得达到生产半导体器件所需纯度的SGS要经过（）等步骤。

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20世纪上半叶对半导体产业量展做出贡献的4种不同产业主要是（）。

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为提高CMOS集成电路的抗自锁能力，可在版图设计上采取哪些措施？

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目前集成电路版图设计的主流工具有哪些？

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版图DRC、ERC和LVS的意义是什么？

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什么是MOS器件的体效应？

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MOS场效应管（MOSFET）在20世纪70年代得到了广泛的接受，从那时起到现在一直是集成电路的主流晶体管。MOSFET有两类（）和（）。每种类型可由各自器件的多数载流子来区别。

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编写DRC版图验证文件的主要依据是什么？

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BiCMOS技术就是将（）和（）的优良性能集中在同一块集成电路器件中。BiCMOS综告了CMOS结构的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件结构的高电流驱动能力。

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什么是电阻率？它的单位是什么（国际标准单位制）？

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