半导体集成电路章节练习(2020.06.09)

来源:考试资料网
参考答案:P阱光刻,光刻有源区,光刻多晶硅,P+区光刻,N+区光刻,光刻接触孔,光刻铝线
参考答案:PCM (Process control monitor) SPEC广义而言是指芯片制造过程中所有工艺量测项目的规格,狭...
参考答案:动态组合逻辑电路由输出信号与电源之间插入的时钟信号PMOS,NMOS逻辑网和逻辑网与地之间插入的时钟信号NMOS组成。当...
参考答案:指崩溃电压(击穿电压),在 Vg=Vs=0时,Vd所能承受的最大电压,当Vd大于此电压时,源、漏之间形成导电沟...
参考答案:① Check MES系统, 察看自己Lot情况
② 处理in&ens...
参考答案:中测:封装前对完成加工的硅片上的所有芯片进行的探针测试和电学测试,已选择出可用的芯片。
成测:对封装后的芯片进...
参考答案:

B:P型杂质,OED;
P:N型杂质,深结,OED;
AS:N型杂质,离子注入精确控制结深。

10.名词解释过渡区宽度
参考答案:输出不确定区域(非静态区域)宽度,VW=VIHmin-VILmax。