A、pH值
B、水泥凝结时间差
C、氯离子含量
D、可溶物含量
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A、外加剂应与水泥具有良好的适应性,其种类和掺量应经试验确定
B、外加剂中的氯离子和碱含量应满足砼设计要求
C、大体积砼宜采用缓凝剂或缓凝减水剂
D、宜采用液态外加剂
A、砼宜采用硅酸盐和普通硅酸盐水泥
B、矿物掺合料的种类和掺量应经试验确定
C、不得同时掺用两种或两种以上的矿物掺合料
D、宜与高效减水剂同时使用
A、二氧化硅含量
B、比表面积
C、游离氧化钙含量
D、三氧化硫含量
A、炉渣
B、硅灰
C、磨细石灰石粉
D、粒化高炉矿渣粉
A、石粉含量
B、氯离子含量
C、有害物质含量
D、压碎指标值
A、构件截面最小尺寸
B、水泥品种
C、建筑规模
D、钢筋最小间距
A、针片状颗粒含量
B、颗粒级配
C、含泥量
D、表观密度
A、复合水泥
B、砌筑水泥
C、普通水泥
D、白色水泥
A、安定性
B、胶砂强度
C、细度
D、凝结时间
A、1000
B、2000
C、3000
D、5000
最新试题
可用作硅片的研磨材料是()
如在半导体的禁带中有一个深杂质能级位于禁带中央,则它对电子的俘获率()空穴的俘获率。
在光线作用下,能使物体产生一定方向的电动势的现象称()
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