厚膜电阻的成分，一是导体颗粒，二是（）。

硅暴露在空气中，在室温下即可产生二氧化硅层，厚度约为（）。

当许多损伤区连在一起时就会形成连续的非晶层，开始形成连续非晶层的注入剂量称为（）。

光刻工艺的特点包括（）。

下面哪些元素属于半径较小的杂质原子？（）

目前制备SOI材料的主流技术有几种？（）

碳纳米管场效应晶体管是未来晶体管发展趋势之一。

化学机械抛光液的主要成分不包括的是哪个？（）

CE定律发展面临的问题包括（）。

光刻工艺的设备核心是（）。