显影也应具有选择性,高的显影选择性比意味着显影液与曝光的光刻胶反应得快。 要求比例低。
最新试题
厚膜电阻的成分,一是导体颗粒,二是()。
如下哪个选项不是半导体器件制备过程中的主要污染物?()
当许多损伤区连在一起时就会形成连续的非晶层,开始形成连续非晶层的注入剂量称为()。
化学机械抛光液的主要成分不包括的是哪个?()
进行光刻工艺前的清洗步骤是()。
三光检查主要是检查芯片粘贴和引线焊接之后有无各种废品。
鸟嘴效应造成的不良影响有()。
掺杂后,退火的目的是()。
新的平坦化方法有哪几个?()
常压的硅外延方法有()。