集成电路技术章节练习(2019.03.01)
来源：考试资料网
参考答案：扩散是微观粒子做无规则热运动的统计结果，这种运动总是由粒子浓度较高的地方向浓度低的地方进行，而使得粒子的分布逐渐趋于均匀... 参考答案：
源漏之间的距离、沟道宽度、开启电压、栅绝缘氧化层的厚度、栅绝缘层的介电常数、载流子的迁移率
参考答案：
图元：工艺能够制造的有源元件和无源元件的版图作为工艺图形单元
参考答案：使用镀银铜线减小高频电阻；用多股的绝缘线代替具有同样总截面的单股线减小肌肤效应；使用介质损耗小的高频陶瓷为骨架减小介质损... 参考答案：
是对光刻工艺可以到达的最小光刻圆形尺寸的一种描述。
参考答案：
N沟道FET的速度将比P沟道FET快2.5倍