集成电路工艺原理判断题每日一练(2018.02.02)

来源：考试资料网
1.判断题芯片上的物理尺寸特征被称为关键尺寸，即CD。
参考答案：对
2.判断题掺杂的杂质和沾污的杂质是一样的效果。
参考答案：错
3.判断题离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度，因而在几乎所有应用中都优于扩散。
参考答案：错
4.判断题区熔法是20世纪50年代发展起来的，能生产到目前为止最纯的硅单晶，含氧量非常少。
参考答案：对
5.判断题投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。
参考答案：错