给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？

问答题给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？

1.问答题光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处？

增大了曝光场，可以获得较大的芯片尺寸，一次曝光可以多曝光些芯片，它还具有在整个扫描过程调节聚焦的能力。

2.问答题解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？

3.问答题例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。

4.问答题描述曝光波长和图像分辨率之间的关系。

减少曝光光源的波长对提高分辨率非常重要，波长的越小图像的分辨率就越高图像就越精确。

5.问答题例举并描出旋转涂胶的4个基本步骤。

6.问答题在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？

一，将掩膜版图案转移到硅片表面顶层的光刻胶中
二，在后续工艺中，保护下面的材料

7.问答题例出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。

8.问答题解释什么是暗场掩模板。

暗场掩膜版是指一个掩膜版，它的石英版上大部分被铬覆盖，并且不透光。

9.问答题例举双大马士革金属化过程的10个步骤。

10.问答题什么是硅化物？难熔金属硅化物在硅片制造业中重要的原因是什么？