给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？

解释什么是暗场掩模板？

解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？

光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处？

解释离子束扩展和空间电荷中和。

解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？

什么是结深？

解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低？

在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？

例举并描出旋转涂胶的4个基本步骤。