1）质量传输 2）薄膜先驱物反应 3）气体分子扩散 4）先驱物吸附 5）先驱物扩散进衬底 6）表面反应 7）副产物解吸 8）副产物去除
最新试题
给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？
什么是结深？
解释发生刻蚀反应的化学机理和物理机理。
光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处？
例出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。
例举离子注入设备的5个主要子系统。
描述电子回旋共振（ECR）。
解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低？
例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。
解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
