例出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。

解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？

定义刻蚀速率并描述它的计算公式。为什么希望有高的刻蚀速率？

例举双大马士革金属化过程的10个步骤。

光学光刻中影响图像质量的两个重要参数是什么？

描述RF溅射系统。

干法刻蚀的目的是什么？例举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点。干法刻蚀的不足之处是什么？

描述电子回旋共振（ECR）。

解释发生刻蚀反应的化学机理和物理机理。

例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。