注入离子的射程主要由()决定。确定注入离子分布的主要参数是()及其()。注入离子分布的一级近似为()。可写成:
最新试题
鸟嘴效应造成的不良影响有()。
光刻工艺对准误差包括()。
光刻工艺的特点包括()。
多层陶瓷基板多层化的方法包括()。
湿氧氧化采用的氧化水温是()。
三光检查主要是检查芯片粘贴和引线焊接之后有无各种废品。
消除鸟嘴效应的方法有()。
硅暴露在空气中,在室温下即可产生二氧化硅层,厚度约为()。
当许多损伤区连在一起时就会形成连续的非晶层,开始形成连续非晶层的注入剂量称为()。
光刻工艺的设备核心是()。