对于大尺寸的MOS管版图设计，适合采用什么样的版图结构？简述原因。

问答题对于大尺寸的MOS管版图设计，适合采用什么样的版图结构？简述原因。

1.问答题为什么说洁净技术是半导体芯片制造过程中的一项重要技术？

2.问答题操作人员的质量职责是什么？

3.问答题衬底清洗过程包括哪几个步骤？

（1）擦洗表面的大块污物；（2）浸泡；（3）化学腐蚀；（4）水清洗；（5）干燥。

4.填空题工艺人员完成工艺操作后要认真、及时填写工艺记录，做到记录内容详细、（）、（）、书写工整、（）。

5.填空题光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。

6.填空题腐蚀V形槽一般采用（）的湿法化学腐蚀方法。

7.填空题用肉眼或显微镜可观察二氧化硅的以下质量：颜色（）、结构（）；表面无（）、无（）、不发花；表面无裂纹、（）。

8.填空题化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。

9.填空题在半导体工艺中，硫酸常用于去除（）和配制（）等。

10.填空题白光照射二氧化硅时，不同的厚度有不同的（）。