A.热压键合 B.超声键合 C.热超声球键合
A.保护芯片以免由环境和传递引起损坏 B.为芯片的信号输入和输出提供互连 C.芯片的物理支撑 D.散热
A.扩散(包括氧化、膜淀积和掺杂工艺) B.光刻 C.刻蚀 D.薄膜 E.离子注入 F.抛光
(1)晶核形成,成束的稳定小晶核形成 (2)聚集成束,也称为岛生长 (3)形成连续的膜
(1)对材料具有高的选择比 (2)不会对器件带来等离子体损伤 (3)设备简单
最新试题
IC集成度和性能得以不断提高的理论基础是()。
下面哪些元素属于半径较小的杂质原子?()
光刻工艺的设备核心是()。
注入损伤与注入离子的以下哪个参数无关?()
目前制备SOI材料的主流技术有几种?()
光刻工艺对准误差包括()。
下面哪道工序主要是针对晶圆切割之后在显微镜下进行晶圆r的外观检查,是否有出现废品?()
消除鸟嘴效应的方法有()。
芯片粘接的工艺过程包括()。
新的平坦化方法有哪几个?()