描述曝光波长和图像分辨率之间的关系。

给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？

解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？

例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。

刻蚀工艺有哪两种类型？简单描述各类刻蚀工艺。

例举并描出旋转涂胶的4个基本步骤。

光学光刻中影响图像质量的两个重要参数是什么？

例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。

解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？

解释发生刻蚀反应的化学机理和物理机理。