描述电子回旋共振（ECR）。

刻蚀工艺有哪两种类型？简单描述各类刻蚀工艺。

描述曝光波长和图像分辨率之间的关系。

定义刻蚀速率并描述它的计算公式。为什么希望有高的刻蚀速率？

解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？

哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。

例举离子注入设备的5个主要子系统。

描述RF溅射系统。

什么是掺杂？例举四种常用的掺杂杂质并说明它们是n型还是p型？

例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。