刻蚀工艺有哪两种类型？简单描述各类刻蚀工艺。

光学光刻中影响图像质量的两个重要参数是什么？

解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？

给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？

解释离子束扩展和空间电荷中和。

描述化学机械平坦化工艺。

什么是掺杂？例举四种常用的掺杂杂质并说明它们是n型还是p型？

哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。

描述RF溅射系统。

解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低？