例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。

给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？

描述电子回旋共振（ECR）。

解释发生刻蚀反应的化学机理和物理机理。

解释什么是暗场掩模板？

哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。

定义刻蚀速率并描述它的计算公式。为什么希望有高的刻蚀速率？

解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？

什么是阻挡层金属？阻挡层材料的基本特征是什么？哪种金属常被用作阻挡层金属？

解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？