给定器件结构和掺杂分布,采用数值方法直接求解器件的基本方程,得到直流(DC.、交流(AC.、瞬态特性和某些电学参数))。
A.系统功能设计B.逻辑和电路设计C.版图设计
最新试题
互连工艺中AL的制备可选用()。
新的平坦化方法有哪几个?()
影响封装芯片特性的温度有()。
进行光刻工艺前的清洗步骤是()。
消除鸟嘴效应的方法有()。
三光检查主要是检查芯片粘贴和引线焊接之后有无各种废品。
湿氧氧化采用的氧化水温是()。
封装工艺中,银浆固化的温度为()。
当许多损伤区连在一起时就会形成连续的非晶层,开始形成连续非晶层的注入剂量称为()。
注入损伤与注入离子的以下哪个参数无关?()