判断题在LPCVD中,由于hG>>kS,即质量转移系数远大于表面反应速率常数,所以,LPCVD系统中,淀积过程主要是质量转移控制
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1.单项选择题离子注入与热扩散相比,哪个横向效应小()
A. 离子注入
B. 热扩散
2.单项选择题
二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些()
①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数
②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数
③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度
④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度
A.②④
B.①③
C.①④
D.②③
3.单项选择题在温度相同的情况下,制备相同厚度的氧化层,分别用干氧,湿氧和水汽氧化,哪个需要的时间最长?()
A.干氧
B.湿氧
C.水汽氧化
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