最新试题
例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。
给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么?
解释离子束扩展和空间电荷中和。
离子源的目的是什么?最常用的离子源是什么?
例举并讨论引入铜金属化的五大优点。
描述RF溅射系统。
什么是阻挡层金属?阻挡层材料的基本特征是什么?哪种金属常被用作阻挡层金属?
例举并描出旋转涂胶的4个基本步骤。
描述电子回旋共振(ECR)。
解释扫描投影光刻机是怎样工作的?扫描投影光刻机努力解决什么问题?