下面哪些元素属于半径较小的杂质原子？（）

新的平坦化方法有哪几个？（）

消除鸟嘴效应的方法有（）。

光刻工艺的特点包括（）。

刻蚀工艺可以和以下哪个工艺结合来实现图形的转移？（）

下面哪道工序主要是针对晶圆切割之后在显微镜下进行晶圆r的外观检查，是否有出现废品？（）

光刻工艺对准误差包括（）。

掺杂后退火时间一般在（）。

下面哪个选项不是集成电路工艺用化学气体质量的指标？（）

目前制备SOI材料的主流技术有几种？（）