Al膜制备方法有？_考试资料网

问答题Al膜制备方法有？

电阻加热蒸发法、电子束蒸发法、溅射法

1.问答题IC对金属材料特性有何要求？

2.问答题何谓氧化增强扩散，发散区推进效应？产生机理是什么？

3.问答题什么是光敏度，移相掩膜，驻波效应？

4.问答题常见的光刻对准曝光设备有？

接触式光刻机；接近式光刻机；扫描投影光刻机；分步重复投影光刻机；步进扫描光刻机。

5.问答题常见的曝光光源？

紫外光源、深紫外光源。

6.问答题什么是正光刻胶，负光刻胶？

7.问答题什么是负光刻胶？

负光刻胶：胶的曝光区在显影中保留，未曝光区在显影中除去，负胶多由长链高分子有机物组成

8.问答题显影为何要进行检查？

区分哪些有很低可能性通过最终掩膜检验的衬底，提供工艺性能和工艺控制数据，以及分拣出需要重做的衬底

9.问答题显影检查内容有哪些？

检查内容：掩膜版选用是否正确、光刻胶层得质量是否满足要求、图形的质量、套刻精度是否满足要求

10.问答题影响显影的主要因素？

曝光时间、前烘的温度和时间、光刻胶的膜厚、显影液的浓度、显影液的温度、显影液的搅动情况