问答题例出典型的硅片湿法清洗顺序。
您可能感兴趣的试卷
你可能感兴趣的试题
1.问答题描述RCA清洗工艺。
3.问答题描述净化间的舞厅式布局。
4.问答题解释空气质量净化级别。
5.问答题例举硅片制造厂房中的7种玷污源。
7.问答题对净化间做一般性描述。
8.问答题例举出硅片厂中使用的五种通用气体。
9.问答题描述在硅片厂中使用的去离子水的概念。
10.问答题砷化镓相对于硅的优点是什么？
最新试题
例举并讨论引入铜金属化的五大优点。
题型：问答题
例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
题型：问答题
例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。
题型：问答题
什么是阻挡层金属？阻挡层材料的基本特征是什么？哪种金属常被用作阻挡层金属？
题型：问答题
什么是掺杂？例举四种常用的掺杂杂质并说明它们是n型还是p型？
题型：问答题
解释什么是暗场掩模板？
题型：问答题
光学光刻中影响图像质量的两个重要参数是什么？
题型：问答题
给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？
题型：问答题
在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
题型：问答题
干法刻蚀的目的是什么？例举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点。干法刻蚀的不足之处是什么？
题型：问答题