例举硅片制造厂房中的7种玷污源。_考试资料网

网站首页考试题库模拟考场智能家居网课试题

通信电子计算机技能考试

题库首页每日一练章节练习

问答题例举硅片制造厂房中的7种玷污源。

参考答案： 硅片制造厂房中的七中沾污源：
（1）空气：净化级别标定了净化间的空气质量级别，它是由净化室空气中的颗粒尺寸和密...

点击查看完整答案

您可能感兴趣的试卷

你可能感兴趣的试题

1.问答题什么是硅片的自然氧化层？由自然氧化层引起的三种问题是什么？

参考答案：自然氧化层：如果曝露于室温下的空气或含溶解氧的去离子水中，硅片的表面将被氧化。这一薄氧化层称为自然氧化层。硅片上最初的自...

点击查看完整答案

2.问答题对净化间做一般性描述。

参考答案：净化间是硅片制造设备与外部环境隔离，免受诸如颗粒、金属、有机分子和静电释放（ESD）的玷污。一般来讲，那意味着这些玷污在...

点击查看完整答案

3.问答题例举出硅片厂中使用的五种通用气体。

参考答案：氧气（O₂）、氩气（Ar）、氮气（N₂）、氢气（H₂）和氦气（He）。

4.问答题描述在硅片厂中使用的去离子水的概念。

参考答案：去离子水：在半导体制造过程中广泛使用的溶剂，在它里面没有任何导电的离子。DI Water的PH值为7，既不是酸也不是碱，...

点击查看完整答案

5.问答题砷化镓相对于硅的优点是什么？

参考答案：砷化镓具有比硅更高的电子迁移率，因此多数载流子也移动得比硅中的更快。砷化镓也有减小寄生电容和信号损耗的特性。这些特性使得...

点击查看完整答案

6.问答题最通常的半导体材料是什么？该材料使用最普遍的原因是什么？

参考答案：最通常的半导体材料是硅。
原因：
1.硅的丰裕度；
2.更高的融化温度允许更高的工艺容限；...

点击查看完整答案

7.问答题例举出半导体产业的8种不同职业并简要描述。

参考答案：1.硅片制造技师：负责操作硅片制造设备。一些设备维护以及工艺和设备的基本故障查询。
2.设备技师：查询故障并维护...

点击查看完整答案

8.问答题名词解释：high-k；low-k；Fabless；Fablite；IDM；Foundry；Chipless。

参考答案：

9.问答题什么是More moore定律和More than Moore定律？

参考答案：

10.问答题什么是特征尺寸CD？

参考答案：最小特征尺寸，称为关键尺寸（Critical Dimension，CD）CD常用于衡量工艺难易的标志。