1.反应产物是挥发性的; 2.选择比率高; 3.刻蚀速率快; 4.具有好的终点灵敏性; 5.有好的各向异性刻蚀速率。
最新试题
硅暴露在空气中,在室温下即可产生二氧化硅层,厚度约为()。
如下哪个选项不是半导体器件制备过程中的主要污染物?()
掺杂后退火时间一般在()。
影响封装芯片特性的温度有()。
下面哪个选项不是集成电路工艺用化学气体质量的指标?()
厚膜电阻的成分,一是导体颗粒,二是()。
新的平坦化方法有哪几个?()
刻蚀工艺可以和以下哪个工艺结合来实现图形的转移?()
硅烷法制备高纯硅的步骤不包括哪一项?()
封装工艺中,银浆固化的温度为()。