厚膜电阻的成分，一是导体颗粒，二是（）。

硅烷法制备高纯硅的步骤不包括哪一项？（）

IC集成度和性能得以不断提高的理论基础是（）。

硅暴露在空气中，在室温下即可产生二氧化硅层，厚度约为（）。

碳纳米管场效应晶体管是未来晶体管发展趋势之一。

光刻工艺的设备核心是（）。

常压的硅外延方法有（）。

目前制备SOI材料的主流技术有几种？（）

CE定律发展面临的问题包括（）。

注入损伤与注入离子的以下哪个参数无关？（）