单项选择题
下面选项属于主扩散的作用有（）。
1.调节表面浓度
2.控制进入硅表面内部的杂质总量
3.控制结深
A.1
B.2
C.3
D.1、3
您可能感兴趣的试卷
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1.单项选择题
不论正胶或负胶，光刻过程中都包括如下步骤：
1.刻蚀
2.前烘
3..显影
4.去胶
5.涂胶
6.曝光
7.坚膜
以下选项排列正确的是：（）。
A.2561437
B.5263471
C.5263741
D.5263714。
2.单项选择题半导体器件生产中所制备的二氧化硅薄膜属于（）。
A.结晶形二氧化硅
B.无定形二氧化硅
3.名词解释再分布
4.名词解释平均投影射程RP
5.名词解释非桥键氧
6.名词解释阱
7.名词解释互连
9.填空题干法刻蚀适用于（） （粗/细）线条。
10.判断题扩散只用于浅结的制备
