填空题入射离子的两种能量损失模型为:核碰撞和()碰撞。
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1.填空题负胶适于刻蚀()(细/粗)线条。
4.单项选择题
下面选项属于主扩散的作用有()。
1.调节表面浓度
2.控制进入硅表面内部的杂质总量
3.控制结深
A.1
B.2
C.3
D.1、3
5.单项选择题
不论正胶或负胶,光刻过程中都包括如下步骤:
1.刻蚀
2.前烘
3..显影
4.去胶
5.涂胶
6.曝光
7.坚膜
以下选项排列正确的是:()。
A.2561437
B.5263471
C.5263741
D.5263714。
6.单项选择题半导体器件生产中所制备的二氧化硅薄膜属于()。
A.结晶形二氧化硅
B.无定形二氧化硅
7.名词解释再分布
8.名词解释平均投影射程RP
9.名词解释非桥键氧
10.名词解释阱