（）是半导体单晶重要电学参数之一，它反映了补偿后的杂质浓度，与半导体中的载流...

填空题（）是半导体单晶重要电学参数之一，它反映了补偿后的杂质浓度，与半导体中的载流子浓度有直接关系。

1.填空题目前国内外导电类型测量有两种（），整流效应法。

2.填空题自然界存在的水（江水，河水，湖水）称为（）。

3.填空题氧和碳在硅晶体中都呈（）分布。

4.填空题一般X射线大致具有的性质（），荧光作用，电离作用，穿透能力强，X射线的折射率近似等于1，衍射作用。

5.问答题解释离子束扩展和空间电荷中和。

6.问答题离子源的目的是什么？最常用的离子源是什么？

目的：使待注入的物质以带电粒子束的形式存在
最常用的源：Freeman离子源和Bernas离子源

7.问答题例举离子注入设备的5个主要子系统。

8.问答题例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。

9.问答题例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。

10.问答题什么是结深？

硅片中p型杂质和n型杂质相遇的深度被称为结深。