光学光刻中影响图像质量的两个重要参数是什么？

什么是阻挡层金属？阻挡层材料的基本特征是什么？哪种金属常被用作阻挡层金属？

给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？

例举双大马士革金属化过程的10个步骤。

在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？

刻蚀工艺有哪两种类型？简单描述各类刻蚀工艺。

解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低？

解释发生刻蚀反应的化学机理和物理机理。

定义刻蚀速率并描述它的计算公式。为什么希望有高的刻蚀速率？

解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？