1.反应产物是挥发性的; 2.选择比率高; 3.刻蚀速率快; 4.具有好的终点灵敏性; 5.有好的各向异性刻蚀速率。
最新试题
光刻工艺的设备核心是()。
碳纳米管场效应晶体管是未来晶体管发展趋势之一。
鸟嘴效应造成的不良影响有()。
硅烷法制备高纯硅的步骤不包括哪一项?()
CMP的设备构成包括()。
消除鸟嘴效应的方法有()。
下面哪个选项不是集成电路工艺用化学气体质量的指标?()
注入损伤与注入离子的以下哪个参数无关?()
新的平坦化方法有哪几个?()
掺杂后,退火的目的是()。